场发射扫描电子显微镜

【设备简介】

提供可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征形貌观察。

【设备原理】

场发射扫描电子显微镜通过电子枪发射电子束，电子束在样品表面扫描，与样品相互作用产生二次电子、背散射电子等信号，这些信号被探测器收集并转化为图像。

【设备特点】

（1）高分辨率：能够清晰地观察到样品表面的微观结构和形貌，其分辨率可达到亚纳米级别。

（2）大景深：景深较大，能够对样品表面的高低起伏进行清晰成像，适合观察表面粗糙的样品。

（3）多种信号成像：可以利用二次电子、背散射电子等多种信号进行成像，提供丰富的样品信息。

（4）样品适应性强：适用于各种固态样品的观察，包括金属、陶瓷、半导体、高分子材料等。

【主要技术指标】

（1）电源电压单相 AC220V，2kVA，50Hz；

（2）实验室温度 17~25℃,湿度<60%；

（3）电子枪:高稳定性肖特基热场发射电子源；

（4）分辨率:二次电子像:<0.9 nm @15kV;<1.3 nm @lkV(标准模式下非样品台减速模式)；

（5）放大倍率:不窄于 12-1,000,000倍(标准宝丽来胶片比)，根据加速电压和工作距离的改变，放大倍数自动校准，低倍率与高倍率无需模式更换；

（6）加速电压:不窄于 0.02kV-30 kV，以士10V 为步进连续可调，从低电压到高电压无需模式更换；

（7）束流:最大束流不大于 20nA，稳定性优于 0.2%/h，抗噪性能优于1%/h；

【基本信息】